Tantalum Sputtering ပစ်မှတ် - Disc

Tantalum sputtering ပစ်မှတ်ကို ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ငန်းနှင့် optical coating လုပ်ငန်းများတွင် အဓိကအသုံးပြုသည်။ကျွန်ုပ်တို့သည် ဖုန်စုပ်စက် EB မီးဖိုကို ရောစပ်သည့်နည်းလမ်းဖြင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းနှင့် အလင်းစက်လုပ်ငန်းတို့မှ ဖောက်သည်များတောင်းဆိုချက်အရ tantalum sputtering ပစ်မှတ်များ၏ အမျိုးမျိုးသော သတ်မှတ်ချက်များကို ထုတ်လုပ်ပါသည်။ထူးခြားသော လှိမ့်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို သတိထားခြင်းဖြင့်၊ ရှုပ်ထွေးသောကုသမှုနှင့် တိကျသောအပူချိန်နှင့် အချိန်ကို ဖြုန်းတီးခြင်းဖြင့်၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် disc ပစ်မှတ်များ၊ ထောင့်မှန်စတုဂံပစ်မှတ်များနှင့် rotary ပစ်မှတ်များကဲ့သို့သော tantalum sputtering ပစ်မှတ်များ၏ ကွဲပြားခြားနားသောအတိုင်းအတာကို ထုတ်လုပ်ပါသည်။ထို့အပြင်၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် တန်တလမ်သန့်စင်မှုကို 99.95% မှ 99.99% သို့မဟုတ် ထို့ထက်ပို၍ အာမခံပါသည်။စပါးအရွယ်အစားသည် 100um အောက်၊ ပြားချပ်ချပ် 0.2 မီလီမီတာ အောက်တွင်ရှိပြီး မျက်နှာပြင် ကြမ်းတမ်းမှုသည် Ra.1.6μm အောက်တွင် ရှိနေသည်။အရွယ်အစားကို ဖောက်သည်များ၏ လိုအပ်ချက်များဖြင့် စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်သည်။ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်အရည်အသွေးကို ကုန်ကြမ်းအရင်းအမြစ်မှတစ်ဆင့် ထုတ်လုပ်မှုလိုင်းတစ်ခုလုံးအထိ ထိန်းချုပ်ပြီး နောက်ဆုံးတွင် ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များကို တည်ငြိမ်ပြီး တူညီသောအရည်အသွေးဖြင့် ဝယ်ယူကြောင်းသေချာစေရန်အတွက် ကျွန်ုပ်တို့၏ဖောက်သည်များထံ ပို့ဆောင်ပေးပါသည်။

ကျွန်ုပ်တို့သည် ကျွန်ုပ်တို့၏နည်းပညာများကို ဆန်းသစ်တီထွင်ရန်၊ ထုတ်ကုန်အရည်အသွေးကိုမြှင့်တင်ရန်၊ ထုတ်ကုန်အသုံးပြုမှုနှုန်းကို တိုးမြှင့်ရန်၊ ကုန်ကျစရိတ်များကို လျှော့ချရန်၊ ကျွန်ုပ်တို့၏ဝန်ဆောင်မှုကို မြှင့်တင်ရန်၊ ကျွန်ုပ်တို့၏ဖောက်သည်များအား အရည်အသွေးမြင့်မားသောထုတ်ကုန်များဖြင့် ပံ့ပိုးပေးနိုင်ရန် ကျွန်ုပ်တို့၏ဝန်ဆောင်မှုကို မြှင့်တင်ရန် ကျွန်ုပ်တို့ကြိုးစားနေပါသည်။ကျွန်ုပ်တို့ကို သင်ရွေးချယ်ပြီးသည်နှင့် ကျွန်ုပ်တို့၏တည်ငြိမ်သောအရည်အသွေးမြင့်ထုတ်ကုန်များ၊ အခြားပေးသွင်းသူများထက် ပြိုင်ဆိုင်မှုရှိသောစျေးနှုန်းနှင့် ကျွန်ုပ်တို့၏အချိန်နှင့်တပြေးညီ မြင့်မားသောဝန်ဆောင်မှုများကို သင်ရရှိမည်ဖြစ်သည်။

ကျွန်ုပ်တို့သည် ASTM B708 ​​စံနှုန်းနှင့်ကိုက်ညီသည့် R05200၊ R05400 ပစ်မှတ်များကို ထုတ်လုပ်ပြီး သင့်ပေးထားသည့်ပုံများအတိုင်း ပစ်မှတ်များကို ဖန်တီးနိုင်ပါသည်။ကျွန်ုပ်တို့၏ အရည်အသွေးမြင့် တန်တလမ်ထည့်သည့်ပစ္စည်းများ၊ အဆင့်မြင့်စက်ကိရိယာများ၊ ဆန်းသစ်သောနည်းပညာများ၊ ပရော်ဖက်ရှင်နယ်အဖွဲ့၏ အကျိုးကျေးဇူးများကိုရယူကာ သင့်လိုအပ်သော sputtering ပစ်မှတ်များကို အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေပါသည်။မင်းရဲ့လိုအပ်ချက်တွေအားလုံးကို ငါတို့ကိုပြောပြနိုင်ပြီး မင်းရဲ့လိုအပ်ချက်တွေအရ ထုတ်လုပ်မှုအတွက် ငါတို့က ရည်စူးထားတယ်။

အမျိုးအစားနှင့် အရွယ်အစား-

ASTM B708 ​​Standard Tantalum Sputtering ပစ်မှတ် , 99.95% 3N5 - 99.99% 4N သန့်ရှင်းမှု၊ Disc ပစ်မှတ်

ဓာတုဖွဲ့စည်းမှုများ

ပုံမှန်သုံးသပ်ချက်-Ta 99.95% 3N5 - 99.99%(4N)

အလေးချိန်အလိုက် သတ္တုအညစ်အကြေးများ၊ ppm အများဆုံး

သတ္တုမဟုတ်သော အညစ်အကြေးများ၊ ppm အများဆုံး အလေးချိန်

လက်ကျန်- တန်တလမ်

သီးနှံအရွယ်အစား- ပုံမှန်အရွယ်အစား <100μm သီးနှံအရွယ်အစား

အခြား စပါးအရွယ်အစားကို တောင်းခံနိုင်ပါသည်။

Flatness: ≤0.2mm

မျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှု-< Ra 1.6μm

မျက်နှာပြင် : ပွတ်သည်။